离子注入最新视觉报道_离子注入工程师有辐射吗(2024年12月全程跟踪)
离子注入机:半导体制造的核心武器 在半导体晶圆制造的领域里,离子注入机可是个关键角色。你知道吗?纯净的硅导电性很差,为了让它变成有用的半导体,我们需要通过掺杂来改变它的结构和电导率。目前,掺杂主要有两种方法:高温热扩散法和离子注入法。虽然高温热扩散法曾经流行过,但现在基本上已经被离子注入法取代了。 什么是离子注入法? 离子注入法是通过离子注入机的加速和引导,把要掺杂的离子以离子束的形式注入到材料中。这些离子束会和材料中的原子或分子发生一系列的理化反应,逐渐损失能量,最终停留在材料中,改变材料的表面成分、结构和性能。离子注入的优点可多了:能精确控制能量和剂量、掺杂均匀性好、纯度高、低温掺杂、不受注射材料影响等等。尤其是在0.25um特征尺寸以下和大直径硅片的制造中,离子注入法简直是标准工艺。 离子注入机的分类 离子注入机和光刻机、刻蚀机和镀膜机并称为四大核心装备,开发难度仅次于光刻机。根据《离子注入机通用规范》(GB/T 15862-2012),离子注入机按能量高低可分为:低能离子注入机、中能离子注入机、高能离子注入机和兆伏离子注入机;按束流大小可分为:小束流离子注入机、中束流离子注入机、强流离子注入机和超强流离子注入机(通常将强流离子注入机和超强流离子注入机统称为大束流离子注入机)。 低能大束流的需求 随着集成电路制程向14nm及以下继续缩小,源漏极的结深相应减小,为了实现浅层掺杂,低能大束流(高剂量/浅度掺杂)日渐成为主流。根据浦东投资的统计,目前低能大束流占有离子注入机市场的55%。 应用领域广泛 离子注入机的应用领域可不止半导体制造哦!它还可以用于集成电路与IGBT制造、太阳能电池生产、AMOLED面板制造等等。真是无所不在啊! 工作原理 离子注入机主要由离子源、磁分析器、加速管或减速管、聚焦和扫描系统、工艺腔(靶室和后台处理系统)五部分组成。设备工作时,从离子源引出的离子经过磁分析器选择出需要的离子,分析后的离子经加速或减速以改变离子的能量,再经过两维偏转扫描器使离子束均匀地注入到材料表面。用电荷积分仪可以精确地测量注入离子的数量,调节注入离子的能量可以精确控制离子的注入深度。 结语 总的来说,离子注入机在半导体晶圆制造中的地位无可替代。随着技术的不断进步,我相信国产替代一定会成为主流!ꀀ
重大突破!芯片+第三代半导体,携手共创未来新篇章 公司筹划实际控制人变更事项 股票复牌 万业企业公告,公司股票将于2024年11月29日(星期五)开市起复牌。此前,公司因间接控股股东宏天元合伙的合伙人正在筹划财产份额协议转让事宜,该事项可能导致公司实际控制人发生变更,而自2024年11月28日开市起停牌,预计停牌时间不超过2个交易日。本次财产份额协议转让尚存在一定的不确定性,公司将根据相关规定及时履行信息披露义务。 点评:公开资料显示,万业企业主要从事房地产、集成电路核心装备。公司主要产品包括:中远两湾城、海尚明城福地苑、海尚明城紫辰苑、瀚海星座、房产租赁、煤炭销售、物业服务等。 万业企业2024年半年报披露,公司旗下凯世通和嘉芯半导体主要从事集成电路核心装备业务。凯世通所涉核心装备业务是以离子注入技术为核心的集研发、制造、销售于一体的高端离子注入机项目,重点应用于集成电路领域,目前营业收入包括自研离子注入机、离子注入机耗材备件以及产品、服务定制与再制造业务等。嘉芯半导体所涉及的产品范围覆盖刻蚀机、薄膜沉积、快速热处理等多品类的半导体前道设备。 公司致力于实现成熟制程的核心设备、支撑设备本地化研发制造,为汽车芯片、功率芯片、逻辑芯片等集成电路晶圆制造厂提供成套的前道设备解决方案。 万业企业8月20日表示,万业企业与国家第三代半导体技术创新中心(苏州)签署《协同创新发展全面战略合作协议》。国家第三代半导体技术创新中心(苏州)由江苏第三代半导体研究院有限公司承建,致力于第三代半导体技术的研发与产业化。此次合作,双方将共建国家第三代半导体创新中心先进化合物半导体器件制造中心与第三代半导体工艺技术开发平台,主要围绕先进半导体设备和工艺关键技术,攻坚关键工艺节点核心工艺技术问题,并开展关键工艺技术开发,共同推动第三代半导体芯片制程量产关键设备国产化、标准化。
国产离子注入机龙头惊天巨变!先导科技成为万业企业大股东!「张国斌的芯发布」「科技风向标」 网页链接
半导体国产替代龙头代表:离子注入机万业企业、半导体硅片中环股份、刻蚀设备中微公司、芯片封测晶方科技等等
【日本芯片材料厂抱怨:美国禁令,让中国提高自给率,我们损失惨重】众所周知,芯片产业链,可以说是全球最复杂的产业链。晶圆厂要制造芯片,需要全球采购芯片设备,比如光刻机、刻蚀机、离子注入机...日本芯片材料厂抱怨:美国禁令,让中国提高自给率,我们损失惨重来自@凤凰新闻
PTL517数显压力变送器。 敏感元件采用扩散或离子注入等工艺,高精度全四位显示,稳定可靠。精度可达0.5%FS,灵敏度高、性能稳定。一路4-20mA+两组开关量输出,隔离能力好,寿命长。
乙硼烷(B2H6):窒息臭味的剧毒气体。硼烷是气态杂质源、离子注入和硼掺杂氧化扩散的掺杂剂。 四氟化硅(SiF4):遇水生成腐蚀性极强的氟硅酸。主要用于氮化硅(Si3N4)和硅化钽(TaSi2)的等离子蚀刻、外延沉积扩散的硅源和光导纤维等用高纯石英玻璃的原料。 锗烷(GeH4):剧毒。金属锗是一种良好的半导体材料,锗烷在电子工业中主要用于化学气相淀积,形成各种不同的硅锗合金用于电子元器件的制造。 全氟丙烷(C3F8):在等离子蚀刻工艺中,作为二氧化硅膜、磷硅玻璃膜的蚀刻气体。 硅烷(SiH4):有毒。硅烷在半导体工业中主要用于制作高纯多晶硅、通过气相淀积制作二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、异质或同质硅外延生长原料、以及离子注入源和激光介质等。
中国科学家在嫦娥五号带回的月壤样本中发现了一种含有大量水分的特殊玻璃珠,这些玻璃珠被认为是月球上的一个庞大储水库。据估计,这个储水库的蓄水量可能多达2700亿吨。这一发现发表在《自然-地球科学》杂志上。 这些玻璃珠是由太空中的陨石、小行星等撞击月球后形成的。撞击过程中,月表的土壤和岩石被熔融,熔体溅射形成液滴,冷却后形成玻璃珠。科学家发现,这些玻璃珠中的水含量从外向内逐渐递减,形成一种特殊的环带特征。 研究还发现,这些水可能来源于太阳风。太阳风中的氢离子注入撞击玻璃珠,并在其内部扩散、保存下来。这些玻璃珠就像海绵一样,锁住了月球表面的水。这些水不仅是未来月球探测任务中的重要资源,而且通过电解水,还能产生氧气和氢气,对于未来的月球基地建设和探测活动具有重要意义。 这一发现打破了人们对月球水资源分布的传统认知,为未来的月球探测和资源利用提供了新的视角和可能性 。大象搬砖的微博视频
半导体制造过程 半导体制造过程包括多个关键步骤,每个步骤都对材料的纯度和性能有严格要求。以下是一些主要步骤: 晶圆:晶圆是半导体的基础,通常由高纯度的单晶硅制成,为集成电路制造提供光滑的表面。 氧化:在晶圆表面形成一层薄的二氧化硅(SiO2),作为绝缘体和模板。 光刻:通过光刻将电路设计转移到晶圆上,使用光敏化合物和紫外光。 刻蚀:去除不需要的材料,揭示电路图案。 沉积和离子注入:在晶圆上沉积薄膜,并注入离子以改变电学性质。 金属布线:沉积薄金属膜,连接电路组件。 电子管芯分选:对半导体芯片进行电气测试,确保性能。 封装:将晶圆切割成单个芯片,并封装以保护和连接外部电路。#三氟莱#
半导体产业链: >中芯国际:第三季度净利润同比增长56.4%,四季度收入预计环比持平至增长2% >看好国产半导体产业链。 上市公司中: 珂玛科技 先进陶瓷材料零部件主要用于半导体制造前道工序,已覆盖刻蚀、薄膜沉积离子注入、光刻和氧化扩散设备,代表性客户包括上海微电、科益虹源、 芯源微。 寒武纪 三季度单季度营收同比大幅增长27%,存货10.15亿元,同比增长311%,相比上半年增加7.8亿元。
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