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纳米压痕最新视觉报道_纳米压痕测试(2024年12月全程跟踪)

内容来源：卡姆驱动平台所属栏目：热点更新日期：2024-12-04

纳米压痕

中国石油化工申请一种基于纳米压痕技术获取宏观岩石力学参数的方法专利，能够通过纳米压痕测试确定的岩石宏观硬度快速获取岩石宏观力学参数

KLA：半导体检测设备的创新之路 𐟚€ KLA公司由肯尼斯ⷥˆ駻𔯼ˆKenneth Levy）和鲍勃于1976年创立，最初专注于半导体检测设备的研发与生产。1997年，KLA与Tencor合并，成立了KLA-Tencor公司，进一步巩固了在全球半导体设备领域的地位。合并后，KLA-Tencor不断加大研发投入，主攻缺陷检测与量测设备AOI。KLA-Tencor Candela CS10是一款高级光学成像系统，主要用于半导体行业中的工艺控制和质量监控，具有高分辨率成像和多种影像模式。 KLA Nano Indenter G200X纳米压痕仪是设计用于各种小尺寸材料的力学性能表征和开发过程中进行纳米力学测量。KLA光罩检测设备，如Teron™ 640和Teron™ SL655，这两款设备是针对10纳米及以下的掩膜技术推出的先进光罩检测系统，具有高分辨率检测和基于缺陷成像性识别的空中成像能力。 2019年，KLA完成了对Orbotech的收购。Orbotech是一家在PCB（印刷电路板）和平板显示设备制造领域具有领先地位的公司。此外，KLA还收购了Nanopro GmbH、VARS、Ultrapointe、Acme Systems、SPTS Technologies等公司。这些收购和研发努力使得KLA在半导体检测设备领域取得了显著成就，成为行业内的领军企业。

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