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极紫外最新娱乐体验_极紫外光刻(2024年12月深度解析)

内容来源：卡姆驱动平台所属栏目：话题更新日期：2024-12-01

极紫外

1990年代，就在尼康想出F2方案、林本坚想出浸入式方案的时候，芯片界的老大英特尔也在想办法：这么小打小闹、修修补补下去不行啊，想要在未来十年保持摩尔定律有效，必须把光刻机的波长缩小一个数量级才行。这种光就是一开始我们提到的极紫外光，它的波长只有13.5纳米，是深紫外光的1/15。当然，要制造出这种光源的光刻机，已经不是哪家公司凭一己之力就可以完成的，必须举当时全美国最先进的科技力量，共同研发。1997年，英特尔和美国能源部牵头，成立了一个研究组织叫做“极紫外联盟”（EUV LLC），成员包括当时还如日中天的摩托罗拉、AMD，以及美国三大国家实验室；总投资两亿美元，集合几百位顶级科学家，从理论上验证极紫外技术的可行性。从1997~2003年的6年之内，极紫外联盟的科学家发表了几百篇论文，扫清了极紫外技术的理论难题，只需要光刻机厂商把技术落地了。问题是，美国举全国之力研发出来的这么宝贵的技术，交给谁呢？美国的光刻机厂商已经被团灭了，剩下的玩家只有阿斯麦、尼康、佳能三巨头。1980年代日本人在存储芯片领域把美国人打得落花流水，美国人至今恨得牙痒痒，把技术转让给日本人断断不行。这样一来，唯一的选择就只有阿斯麦了。#热点新知#

中国到底能不能制造出，极紫外光光刻机，一朝突破技术壁垒

芯片制造的七大关键技术 1. 𐟌ˆ 光刻技术光刻技术是芯片制造的核心，决定了芯片的分辨率和性能。目前，深紫外光（DUV）和极紫外光（EUV）光刻是主流技术。EUV光刻能够达到更小的制程节点，例如5纳米和3纳米工艺，对高性能芯片的制造至关重要。 𐟔砨š€刻技术蚀刻技术在硅片上形成精确的电路图案。干法蚀刻和湿法蚀刻是两种主要方法，共同确保了芯片上电路的精确性和可靠性。 𐟒堧滥퐦𓨥…妊€术离子注入技术通过高能离子束将掺杂元素注入硅片，从而控制其导电特性。这种技术对于制造高性能的晶体管至关重要。 𐟛᯸ 薄膜沉积技术 CVD（化学气相沉积）和PVD（物理气相沉积）技术用于在硅片表面沉积各种薄膜，如金属层、绝缘层等。这些薄膜对于构建复杂的电路结构至关重要。 𐟏—️ 3D制造技术 3D制造技术，如FinFET（鳍式场效应晶体管）和GAA（环绕栅极晶体管），通过在芯片上创建三维结构来提高性能和功耗效率。 𐟌𑠦–𐦝料和工艺研究人员正在探索新型半导体材料，如硫化铂，以解决硅基材料的局限性。这些新材料可能为未来的芯片制造提供新的可能性。 𐟤– 智能化和自动化随着人工智能和自动化技术的发展，芯片制造的智能化和自动化程度不断提高。这有助于提高生产效率和质量，同时减少人工干预。

就在不久前，阿斯麦（ASML）CEO在一场国际会议上语出惊人：中国的光刻机技术落后足足10到15年！他说，没有他们家的EUV极紫外光刻机，中国几乎没法造出3-5nm工艺。大家都知道，美国可是死活不让荷兰卖这种设备给我们，这背后的弯弯绕真是够多。说实话，我觉得这事儿没那么绝对。你看，我们自己的上海微电子有限公司早就公布了新款极紫外辐射装置和相关设备。这些可都是自主研发的呀，再加上中芯国际这样的企业撑腰，咱们还怕啥呢？再聊聊华为这个逆袭王者。当初断供华为的时候，他们照样推出了麒麟9000处理器，而且现在麒麟9000s也官宣上线了。Mate60更是震撼登场，把国外那些个"看客"脸都打肿啦！余承东总能带来惊喜，说下一个Mate70会史无前例地强，你信吗？反正我信！总结一下，这就是典型的“封锁—突破”事件树：先有西方国家技术封锁→国内科研力量集结→国产创新迅猛发力。不难推理，只要我们继续坚持自研之路，那些曾经限制我们的技术壁垒迟早会被攻破，到时候可能连ASML求着把机器送过来，我们也未必稀罕哦~

对于极紫「中国超话」外光，昨天有了点看法，比美国极紫外13波长还先进，可能小石头打破大锅。李延哥哥的微博视频

俄勒冈州希尔斯伯勒英特尔代工厂的ASML高数值孔径（High-NA）极紫外光刻机

ASML阿斯麦CEO说：出口管制的主要动机就是为了防止中国获得先进技术。由于中国没有极紫外光刻技术，我们就几乎阻止了中国超越5纳米或者3纳米节点的能力。我们认为中国在先进技术方面落后了10年到15年。但他不知道的是，中国人的创造力是无穷的。以前说给中国图纸都造不出光刻机，后来说中国造不出14纳米的芯片，再后来说中国造不出7纳米的芯片，如今说中国没极紫光光刻技术造不出3～5纳米的芯片，在等几年，嘿嘿嘿，你们就要哭啦。

全球光刻机最新进展：阿斯麦：量产极紫外光刻机（EUV）佳能和尼康：量产深紫外光刻机（DUV）上海微电子：步进式光刻机和深紫外光刻机（DUV）同步进行研发和测试中大族激光：步进式光刻机进行研发和测试中中国半导体的希望将全部寄托于上海微电子和大族激光的技术突破，上海微电子代表光刻机国家队，大族激光代表光刻机民企队。仅仅是个人的思考和看法不构成投资建议，欢迎大家一起讨论。

德国媒体炸开了锅！上海微电子竟然在德国申请了6项EUV极紫外光刻机的关键专利，这六项专利居然还没在中国工信部披露目录里！海外媒体都慌了，分析称中国可能已经拥有更先进的EUV设备，而且可能是性能太过顶尖，所以才不便透露！这消息简直炸裂啊！这可不是小事，EUV光刻技术在半导体行业中可谓是“皇冠上的明珠”。想象一下，手机、电脑、甚至是我们日常使用的各种智能设备，背后都离不开这个技术的支持。简单说，EUV光刻机就像是半导体制造的“画笔”，没有它，微小的电路图案根本无法精细呈现。根据市场研究机构的数据，2022年全球EUV光刻机市场的规模已经达到了数十亿美元，未来几年还将持续增长。这次上海微电子在德国申请专利，说明他们在技术上已经走在了前面。许多人可能会想，为什么选择在德国申请，而不是在国内？其实，德国作为欧洲的科技重镇，拥有强大的知识产权保护体系，申请专利的成功率相对较高。更重要的是，德国的科技氛围和市场环境也为创新提供了肥沃的土壤。就像我们常说的“酒香不怕巷子深”，真正的技术实力，终究会在国际舞台上得到认可。与此同时，海外媒体的反应也很有意思。分析师们纷纷猜测，中国的EUV技术可能已经超越了他们的预期，甚至有些媒体直言不讳地表示“这可能是中国的一次技术逆袭”。这让人不禁想起了几年前的“芯片危机”，当时大家都在担心中国的半导体产业是否能跟上世界的步伐。而如今，随着一系列技术突破的出现，这种担忧似乎正在逐渐消散。这背后，实际上反映了一个更深层次的现象：科技的竞争不仅仅是技术本身的较量，更是国家间战略布局的博弈。我们常说“技术无国界”，但在现实中，技术的掌握与应用往往与国家的政策、市场环境和人才培养息息相关。中国在过去的十年里，加大了对半导体产业的投入，从政策支持到资金投入，几乎是全方位的扶持。根据统计，2021年中国半导体产业的投资额达到了5000亿元人民币，这个数字在全球范围内都是相当可观的。当然，技术的进步并不是一蹴而就的。正如一位半导体行业的专家所说：“技术的突破需要时间、资金和人才的积累。”而这次上海微电子的专利申请，正是这一过程的体现。它不仅展示了中国在EUV技术上的潜力，也为整个行业树立了一个新的标杆。现在，有些人可能会问，这样的消息对我们普通人有什么影响呢？其实，影响是潜移默化的。随着中国在半导体技术上的不断突破，未来我们使用的电子产品会更加便宜、性能更强。想象一下，以后买手机时，可能不再需要为高昂的价格而苦恼，更多的选择将会让我们享受到科技进步带来的红利。当然，也有一些声音在担忧，技术的迅速发展可能带来新的竞争压力，甚至引发国际间的摩擦。但从长远来看，技术的进步最终会推动全球经济的发展，造福每一个人。就像我们常说的“风雨之后见彩虹”，在竞争中不断创新，才能迎来更美好的明天。那么，大家对这个消息怎么看呢？你认为中国的半导体技术未来会如何发展？是不是也觉得这次的专利申请让我们看到了希望？欢迎在评论区分享你的想法！

德国媒体炸开了锅！上海微电子竟然在德国申请了6项EUV极紫外光刻机的关键专利，这六项专利居然还没在中国工信部披露目录里！海外媒体都慌了，分析称中国可能已经拥有更先进的EUV设备，而且可能是性能太过顶尖，所以才不便透露！这消息简直炸裂啊！𐟤ﰟ䯰Ÿ䯊德国的科技界近期被一则震撼消息引爆。上海微电子在德国申请的六项EUV极紫外光刻机专利，犹如一颗重磅炸弹，震动了全球半导体产业。这些专利不仅涵盖了光源、光学系统等关键技术，更令人惊讶的是，它们在中国工信部的专利公开目录中竟未见踪影。这一情况瞬间引发了外界的广泛猜测，关于中国在EUV技术领域是否已经实现了重大突破的讨论愈演愈烈。在半导体制造中，EUV技术被视为未来发展的核心。这项技术能够以更小的线宽和更高的集成度，推动电子产品的性能极限。如今，全球范围内的半导体竞争愈发激烈，各大科技巨头都在拼命追赶，争夺市场的主导地位。正是在这样的背景下，上海微电子的专利申请无疑让人感受到了一股强烈的竞争压力。这六项专利的具体内容涉及多个关键技术，其中包括用于EUV光源的离子束技术和基于多层反射镜的光学系统设计。这些技术的突破不仅意味着更高的光学效率，还可能为未来的芯片制造带来革命性的变化。外界对这些专利的关注，不仅仅是因为它们的技术含量，更因为它们代表了中国在这一前沿科技领域的潜在实力。德国媒体对此事的反应则充满了担忧。《商报》指出，上海微电子的专利申请可能会改变未来的半导体芯片icon制造格局，尤其是在当前全球供应链紧张的背景下。这种担忧并非无的放矢，EUV光刻机作为制造下一代半导体芯片的关键设备，其技术掌握与否直接关系到各国在科技竞争中的地位。在国际媒体的热议中，关于中国是否已经掌握了更先进EUV技术的讨论层出不穷。一些分析认为，上海微电子的专利申请可能暗示着中国在这一领域的快速进步，甚至可能已经开发出性能更优的EUV光刻机。这一信息的传递，让许多依赖EUV技术的半导体巨头感到不安，市场的紧张情绪随之上升。面对这样的局势，业内专家的声音也显得尤为重要。尽管有些专家认为，中国在EUV技术的研发上仍需时间追赶，但也有观点认为，上海微电子的专利申请显示了中国在这一领域的潜力。随着研发投入的不断增加和技术创新的推进，中国在EUV技术的竞争中或许能够占据一席之地。这样的局势引发了人们对未来科技竞争的深思。面对日益复杂的国际形势，各国在高科技领域的竞争将愈发激烈。中国的技术进步是否会打破现有的市场格局？未来的半导体行业又将如何发展？这些问题不仅关乎国家的科技实力，也与全球经济的走向息息相关。在这一背景下，上海微电子的专利申请无疑是一个引人注目的焦点。它不仅展示了中国在高科技领域的追赶步伐，也反映出全球科技竞争的加剧。在这个瞬息万变的时代，谁能够在技术上领先一步，谁就能在未来的市场中占据主动权。 #我要上热门#

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