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1、 当PN结外加正向电压,即P区接外电场的+极性端,N区接外电从而形成电流,此种状态称为PN结导通。 2、当PN结外加反向电压1、 当PN结外加正向电压,即P区接外电场的+极性端,N区接外电从而形成电流,此种状态称为PN结导通。 2、当PN结外加反向电压1、 当PN结外加正向电压,即P区接外电场的+极性端,N区接外电从而形成电流,此种状态称为PN结导通。 2、当PN结外加反向电压1、 当PN结外加正向电压,即P区接外电场的+极性端,N区接外电从而形成电流,此种状态称为PN结导通。 2、当PN结外加反向电压1、 当PN结外加正向电压,即P区接外电场的+极性端,N区接外电从而形成电流,此种状态称为PN结导通。 2、当PN结外加反向电压其内部电场区域变宽,有较少的漂移电流通过PN结,形成我们所说的漏电流。当门极有足够驱动信号给到时,下管NPN导通工作,上管PNP门极通过下管NPN集电极给到的驱动电流,使得上官PNP也导通,通过互形成欧姆接触电极。 从上面的描述我们可以看出来:在整个光伏电池片的生产过程中,丝网印刷机非常重要,而耗材方面,主要是银浆而在另一个区域进行P型掺杂,就形成了一个PN结。PN结是半导体器件当中最重要和最基础的一种特殊结构,也是半导体电子器件如晶圆底部的金属层形成n电极。图3显示了扩散PN结二极管的物理(或Ge)层。然后,这个完整的结构形成了 p 区扩散的 n 区。S/D Formation并通过 FB 脚检测输出状态来形成环路控制 PWM 驱动功率 MOS 管,实现稳压或者恒流输出。这是一个非同步模式电源,即续流器件为PN结反偏时,能够正向导电的多数载流子被拉向电源,使PN结变所以,此时漏电流的形成主要靠的是少数载流子,是少数载流子在形成一个完整的系统或子系统)。 凭借这些独特的物理化学性质,做了一个看似小小的改动:在PN结的p型区域上方,添加了一个可由于MOSFET的制造工艺,源极和体区之间会形成一个PN结,这个PN结就相当于一个二极管。这就是所谓的体二极管。今年9月份,隆基绿能对外宣布其新一代电池的技术路线将选择BC电池技术,随后,公司就开始加速BC电池技术的布局。目前,隆基碳化硅2在顶面热生长层,光蚀刻,然后与p区域进行铝接触。基板底部的金属层形成连接铅的n电极。该技术广泛用于IC芯片的制造。形成的PP,NN, PN,和NP结。P(VDF-WSe)通过Ⱳ0V的栅极br/>图3 可编程的WSe2/P(VDF-WSe)同质结。(a) PFM图像描述了在电池PN结上形成电位差,最后光伏电池就将光能转换为电能,是发电系统中的核心元器件。 因此,光伏电站主要分为集中式电站和这些新产生的电子-空穴对继续加速运动,形成连锁反应,导致PN结中的电流急剧增加,形成雪崩击穿。其中 发电的关键在于制备 PN 结。光线照射提供能量使得 P 型硅和达到平衡后这个薄层就形成了电势差,从而形成 PN 结。背面p+区制备、去除多余掩膜、背面n+区制备、制备表面场、沉积IBC核心工艺在于形成背面PN结,背接触结构的IBC电池为使前表面异质结是一种特殊的PN结,由非晶硅和晶体硅材料形成,是在晶体硅上沉积非晶硅薄膜,属于N型电池中的一种。背面p+区制备、去除多余掩膜、背面n+区制备、制备表面场、沉积IBC核心工艺在于形成背面PN结,背接触结构的IBC电池为使前表面并且耗尽层电场方向使少子更容易通过PN结,形成漏电流。得出怎么注入,在N区下再加一个P区,并且使新加的PN结正偏,如下:(5)晶硅太阳电池发展技术路线:2008 年冷氢化技术的突破大幅降低了光伏生产成本,奠定了晶硅的主流路线;2015 年以来的单晶形成浅埋pn结并在CIGS表面自然外延生长完全不同,在ImageDescription缓冲层沉积过程中,其表面的Zn2+被溶液中氨水(NH3∙H2但当达到平衡后,硫化物电解质与氧化物正极材料的界面处会形成一个类似电子导体中PN结的低锂离子浓度区域,该区域被称为空间其中都是由PN两个结同时构成,下面对于其工作象限展开解析,相应的MT2 P结介入导通,因此构成了自上而下的PNN与NPN结构电池片是由硅片制成,经过制绒、扩散及 PECVD 等工序后,硅片生成能够光照发电的 PN 结,由此形成了电势,但光有电势是不够的蚀刻N阱和P阱,并注入离子,形成PN结(逻辑闸门),然后做出上层金属连接电路。接着对晶圆进行电气特性检测。然后将制造完成的激活形成N型掺杂,与P型衬底形成PN结。主要的化学反应式如下:ImageTitle3+ O2 → P2O5 + Cl2;P2O5+ Si → ImageTitle2 + P在两种材料的界面区域形成了PN结。在二硒化钨薄膜靠近STO界面的空间电荷区域,光诱导产生的空穴可以积累并保持,直到有足够大IGBT功率半导体结构是在硅基基础上进行多种元素掺杂后形成复杂PN结的一种开关系统,IGBT使此类开关结构呈现相对优良的电压异质结(HIT)是一种特殊的PN结,由非晶硅和晶体硅材料形成,是在晶体硅上沉积非晶硅薄膜,属于N型电池中的一种。HIT(制作N型发射极区, 以形成光电转换的基本结构:PN结;第三步是等离子刻边,去除扩散后硅片周边形成的短路环;第四步是去除磷硅我司技术团队对反偏pn结的插入位置,掺杂浓度,以及所形成的电流限制孔径大小做了细致分析;研究发现对于此器件,选择合适的pn电子流入N区,空穴流入P区,结果使得N区储存了过剩的电子,P区有过剩的空穴,它们在PN结附近形成与势垒方向相反的光生电场。N型半导体之间形成的PN结,通过改变栅极电压来调整沟道内主营种类: 1.PMOS(P型MOS管):PMOS管是指栅极(G)的异质结电池的核心特点 就是高开路电压,这来自于构成其 PN 结的材料是不同种类的,理论上就比同质结电池的电压要高。但其特殊的离子注入设备分类及说明,制图丨果壳硬科技 参考资料丨头豹[49] 离子注入设备在制造设备中价值比重并不大,约为3%,2021全球在太阳能电池内部PN结上形成电位差,从而将太阳能转换为电能,因此光伏电池是决定光伏发电效率的核心器件。 根据半导体材料的不在太阳能电 池内部 PN 结上形成电位差,从而将太阳能转换为电能由于半导体内载流子浓度的差异,在 PN 结会形成一个由 N 指向 P薄膜电池属于第二代太阳能电池,是在玻璃、不锈钢或高分子聚合物衬底上附着感光薄膜材料从而形成PN结,用硅量极少,同时具有弱P区有过剩的空穴,它们在PN结附近形成与势垒方向相反的光生电场。光生电场除了部分抵消势垒电场的作用外,还使P区带正电,N区可由P型转向N型 3、PN结的形成 两边多子浓度不同——多子扩散—形成PN结 注:由于交界面两侧的N型半导体和P型半导体存在多子HJT电池采用硅基薄膜工艺形成PN结发射区,制程中的最高温度就是非晶硅薄膜的形成温度,避免了传统晶体硅电池形成PN结;获得PN结:从PN结说起 PN结是半导体的基础,掺杂是半导体的灵魂,P-和N-表示轻度掺杂 PN结原理如下图,空穴和电子的扩散形成耗尽N型硅片在少子寿命等方面具有天然优势,效率极限更高。 技术原理HJT:晶体硅/非晶硅异质结形成PN结,在晶体硅与非晶硅之间镀制N沟道和P沟道,接下来我们就以N沟道结型场效应管为例来对场所加负向电压越大,在PN结处所形成的耗尽区越厚,导电沟道越窄由三个PN结(PN-PN四层)构成.器件的外引线有阴极、阳极、控制极三个电极 器件的反向特性(阳极接负)和PN结二极管的反向特性相似;其内部的缺陷能级导致PN结内形成电位差,最终产生噪声。 wKgaomXapfyAMq类反向爆裂噪声闪元在时域上会随机出现向下尖峰值,是在这个例子中,让浓度为1016cm-3的As掺杂形成的N区以及用浓度形成的P区进行接合,形成二极管。另一部分是以电子为主的n型半导体,两种半导体连接形成PN结。当电流通过导线作用在芯片上时,N极的电子会被推向P极,并在P极当有光照射时,PN结附近受光子的轰击,半导体内被束缚的价电子形成光电流,该光电流随入射光强度的变化而相应变化。 光电流LPCVD是把隧穿氧化层、本征非晶硅层制备完成以后增加P扩散和然后在多晶硅中掺入磷制成 PN结,形成钝化接触结构。这一技术采用不同的掺杂工艺,通过扩散作用,将P型半导体与N型半导体在它们的交界面就形成空间电荷区称为PN结。PN结上可以产生电流(f)厘米级wKgaomUCX2wKgaomUCX2异质结中形成的PN结以及它们在不同Vg下的I-V特性曲线。 本研究工作提供了一种具有普适性P型双面双玻组件正面一般发生PID-s衰减,背面一般发生PID-p这些离子会穿过PN结,形成PN结两端的漏电流通道,导致PID-s之后,小芳编造自己是律师,先后以办理案件垫资、支付员工工资、父母生意、母亲生病等事由骗取了小东51万元,都被她挥霍一空。二极管就是由一个由 P 型半导体和 N 型半导体形成的 PN 结加上从 PN 结形成的原理分析,还需要分析 P 型半导体的形成,N 型半电荷运动的势垒:p-n结区内形成的内建电场。阻碍电子从n区向p区半导体中可以利用各种势垒如pn结、肖特基势垒、异质结等形成由于容抗跟频率成反比,当加在PN结上的交流电频率较高时,交流电就可以通过PN结的电容形成通路,PN结会失去单向导电的特性。再利用扩散炉在多晶硅中掺入磷制成PN结,形成钝化接触结构后这种技术路线的优点是产量高,直接制备n型多晶硅层。但缺点是会因为其基材不是由原子构成的它本身就是一个质子。电路的PN结是在它们的交界面就形成空间电荷区称为PN结(英语:PN junction)把它们结合在一起,就形成 PN 结。边界处 N 型半导体的电子自然这时 PN 结整体还呈电中性,因为空间电荷有正有负互相抵消。PN结构 一个典型的光电二极管是由两层P型和N型半导体连接在一起形成PN结。由于它是一个光传感器,接合处被玻璃或光学透镜覆盖,这些注入的少数载流子很容易通过反偏的PN结——集电结,到达集电极,形成集电极电流Ic。三极管放大导通条件是《发射结正偏,集这些注入的少数载流子很容易通过反偏的PN结——集电结,到达集电极,形成集电极电流Ic。三极管放大导通条件是《发射结正偏,集采用不同的掺杂工艺,通过扩散作用,将P型半导体与N型半导体制作在它们的交界面就形成空间电荷区称为PN结。PN结具有单向导电性PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到PN产生电离并形成等离子体。 等离子体是由带电的电子和离子组成,PN结 (图片来源:维基百科) PN结形成后,其两端显不同的电性,进而形成一个从N指向P的电场。这个电场是自发形成的,我们可以叫赵学文从原理上说明:“光伏是二极管,二极管就要形成PN结,即正负极。异质结的‘异’即外来,而PERC(发射极和背面钝化电池2、可以在P(N)型衬底上外延生长N(P)型外延层,直接形成PN结,不存在用扩散法在单晶基片上制作PN结时的补偿的问题。 3、图3 可编程的WSe2/P(VDF-TrFE)同质结。(a) PFM图像描述了通过插图:PN和NP同质结下的能带图。在偏置电压ⱱ.5V下,作为PN(首先,硼扩散设备,关系到N型电池片PN结制备。N型光伏电池片以形成PN结。然而,传统硼扩散工艺容易导致PN结不均匀等系列然后在多晶硅中掺入磷制成 PN 结,形成钝化接触 结构。这一技术路线出现时间最早,工艺成熟度高,具有成膜质量高、产能高等优势在高温环境下让一张硅片上形成“PN结”。“通俗理解,光照射在硅片上后,电子在‘P’和‘N’之间流动,从而产生电能。”王文杰稳压二极管通过利用PN结的反向击穿状态,能够在电流变化范围当线圈中的电流消失时,感应电动势会通过二极管和线圈构成的回路集成电路的基础是 PN 结,要想形成 PN 结,就必须在不同的晶圆里掺加不同的杂质(本质上而言是加入 P、N 型杂质,改变其导电性质(Heterojunction)是通过二种不同种类半导原材料体所构成的 PN 结过对表面扩散夹杂所形成的 PN 结乃为同质性结。 异质结电池(HJT从而形成“异质”的“PN结”。所以,非晶硅薄膜沉积环节,就相当于汽车发动机的制造环节,不论是从生产成本上看还是从实际功能在P型半导体和N型半导体的结合面两侧,留下离子薄层,这个离子薄层形成的空间电荷区称为PN结。PN结的内电场方向由N区指向P区PN耗尽层形成的电场分布参见图二(c),最大电场介于PN结界面,三角形面积的大小代表器件承受的电压,最大电场不能超过材料的临界(4)PN结:是由一个N型掺杂区和一个P型掺杂区紧密接触所构成用不同的掺杂工艺使其一边形成N型半导体,另一边形成P型半导体相邻的两个不同类型的杂质半导体将形成PN结,我们把发射区与基区之间的PN结称之为发射结,而把基区与集电区之间的PN结称之为防止电池片短路 PEVCD——在形成PN结的一面利用增强型等离子化学气相沉积法沉积氮化硅(掺氢)薄膜,并控制合适的厚度以及使之形成PN结(PN junction,一种半导体结构),再以此创建晶体就比如说,向硅材料内掺入五价元素磷或砷,就可以得到N型半导体形成PN结(2)H气氛下热处理,Ce掺杂ImageTitle晶体尺寸变大,第二相颗粒没有很好的钉扎晶界,而在空气中热处理出现晶粒细化。形成“浅埋pn结”并在CIGS表面自然外延生长完全不同,在ACZTSSe表面沉积ACZTSSe的过程中,表面的Zn2+被溶液中NH4OH溶解就在棒极附近形成电荷积累区,使未游离区的电场强度增大,而导致当 PN 结的反向偏压较高时,会发生由于碰撞电离引发的电击穿,HJT电池是异质结电池,是一种特殊的PN结,由非晶硅和晶体硅材料形成,是在晶体硅上沉积非晶硅薄膜,属于N型电池中的一种;对于NPN管,它是由2块N型半导体中间夹着一块P型半导体所组成发射区与基区之间形成的PN结称为发射结,而集电区与基区形成的P型基区:位于N型漂移区的顶部,这个P型层作为发射极,与N型漂移区形成PN结。 N+发射区:通常位于P型基区的顶部,这个高掺杂因此PN结内部会形成一个由N型指向P型的内部电场,这个内部电场会同时排斥P型半导体的空穴和N型半导体的电子,从而阻止PN结的日光照射太阳电池表面时,半导体PN结的两侧形成电位差。其效率在百分之十以上,典型的输出功率是5~10毫瓦每平方厘米(结面积来改变半导体的电学性能形成pn结、电阻、欧姆接触等。 扩散和由于掺入的杂质不同,杂质半导体可以分为N型和P型两大类。N型对于NPN管,它是由2块N型半导体中间夹着一块P型半导体所组成发射区与基区之间形成的PN结称为发射结,而集电区与基区形成的相反,如果向硅晶体加入磷杂质,那么磷最外层的5个电子与硅形成(简称PN结),那么电子就会从N向P扩散。HJT电池又称为异质结电池,它是一种特殊的PN结,由非晶硅和晶体硅材料形成,是在晶体硅上沉积非晶硅薄膜,属于N型电池中的一
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可由P型转向N型 3、PN结的形成 两边多子浓度不同——多子扩散—...形成PN结 注:由于交界面两侧的N型半导体和P型半导体存在多子...
HJT电池采用硅基薄膜工艺形成PN结发射区,制程中的最高温度就是非晶硅薄膜的形成温度,避免了传统晶体硅电池形成PN结;获得...
PN结:从PN结说起 PN结是半导体的基础,掺杂是半导体的灵魂,...P-和N-表示轻度掺杂 PN结原理如下图,空穴和电子的扩散形成耗尽...
N型硅片在少子寿命等方面具有天然优势,效率极限更高。 技术原理...HJT:晶体硅/非晶硅异质结形成PN结,在晶体硅与非晶硅之间镀制...
N沟道和P沟道,接下来我们就以N沟道结型场效应管为例来对场...所加负向电压越大,在PN结处所形成的耗尽区越厚,导电沟道越窄...
由三个PN结(PN-PN四层)构成.器件的外引线有阴极、阳极、控制极三个电极 器件的反向特性(阳极接负)和PN结二极管的反向特性相似;其...
内部的缺陷能级导致PN结内形成电位差,最终产生噪声。 wKgaomXapfyAMq类反向爆裂噪声闪元在时域上会随机出现向下尖峰值,是...
另一部分是以电子为主的n型半导体,两种半导体连接形成PN结。当电流通过导线作用在芯片上时,N极的电子会被推向P极,并在P极...
当有光照射时,PN结附近受光子的轰击,半导体内被束缚的价电子...形成光电流,该光电流随入射光强度的变化而相应变化。 光电流...
LPCVD是把隧穿氧化层、本征非晶硅层制备完成以后增加P扩散和...然后在多晶硅中掺入磷制成 PN结,形成钝化接触结构。这一技术...
采用不同的掺杂工艺,通过扩散作用,将P型半导体与N型半导体...在它们的交界面就形成空间电荷区称为PN结。PN结上可以产生电流...
(f)厘米级wKgaomUCX2wKgaomUCX2异质结中形成的PN结以及它们在不同Vg下的I-V特性曲线。 本研究工作提供了一种具有普适性...
P型双面双玻组件正面一般发生PID-s衰减,背面一般发生PID-p...这些离子会穿过PN结,形成PN结两端的漏电流通道,导致PID-s...
之后,小芳编造自己是律师,先后以办理案件垫资、支付员工工资、父母生意、母亲生病等事由骗取了小东51万元,都被她挥霍一空。...
二极管就是由一个由 P 型半导体和 N 型半导体形成的 PN 结加上...从 PN 结形成的原理分析,还需要分析 P 型半导体的形成,N 型半...
电荷运动的势垒:p-n结区内形成的内建电场。阻碍电子从n区向p区...半导体中可以利用各种势垒如pn结、肖特基势垒、异质结等形成...
由于容抗跟频率成反比,当加在PN结上的交流电频率较高时,交流电就可以通过PN结的电容形成通路,PN结会失去单向导电的特性。
再利用扩散炉在多晶硅中掺入磷制成PN结,形成钝化接触结构后...这种技术路线的优点是产量高,直接制备n型多晶硅层。但缺点是会...
因为其基材不是由原子构成的它本身就是一个质子。电路的PN结是...在它们的交界面就形成空间电荷区称为PN结(英语:PN junction)...
把它们结合在一起,就形成 PN 结。边界处 N 型半导体的电子自然...这时 PN 结整体还呈电中性,因为空间电荷有正有负互相抵消。PN...
结构 一个典型的光电二极管是由两层P型和N型半导体连接在一起形成PN结。由于它是一个光传感器,接合处被玻璃或光学透镜覆盖,...
这些注入的少数载流子很容易通过反偏的PN结——集电结,到达集电极,形成集电极电流Ic。三极管放大导通条件是《发射结正偏,集...
这些注入的少数载流子很容易通过反偏的PN结——集电结,到达集电极,形成集电极电流Ic。三极管放大导通条件是《发射结正偏,集...
采用不同的掺杂工艺,通过扩散作用,将P型半导体与N型半导体制作...在它们的交界面就形成空间电荷区称为PN结。PN结具有单向导电性...
PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到PN...产生电离并形成等离子体。 等离子体是由带电的电子和离子组成,...
PN结 (图片来源:维基百科) PN结形成后,其两端显不同的电性,进而形成一个从N指向P的电场。这个电场是自发形成的,我们可以叫...
赵学文从原理上说明:“光伏是二极管,二极管就要形成PN结,即正负极。异质结的‘异’即外来,而PERC(发射极和背面钝化电池...
2、可以在P(N)型衬底上外延生长N(P)型外延层,直接形成PN结,不存在用扩散法在单晶基片上制作PN结时的补偿的问题。 3、...
图3 可编程的WSe2/P(VDF-TrFE)同质结。(a) PFM图像描述了通过...插图:PN和NP同质结下的能带图。在偏置电压ⱱ.5V下,作为PN(...
首先,硼扩散设备,关系到N型电池片PN结制备。N型光伏电池片...以形成PN结。然而,传统硼扩散工艺容易导致PN结不均匀等系列...
然后在多晶硅中掺入磷制成 PN 结,形成钝化接触 结构。这一技术路线出现时间最早,工艺成熟度高,具有成膜质量高、产能高等优势...
在高温环境下让一张硅片上形成“PN结”。“通俗理解,光照射在硅片上后,电子在‘P’和‘N’之间流动,从而产生电能。”王文杰...
稳压二极管通过利用PN结的反向击穿状态,能够在电流变化范围...当线圈中的电流消失时,感应电动势会通过二极管和线圈构成的回路...
集成电路的基础是 PN 结,要想形成 PN 结,就必须在不同的晶圆里掺加不同的杂质(本质上而言是加入 P、N 型杂质,改变其导电性质...
(Heterojunction)是通过二种不同种类半导原材料体所构成的 PN 结...过对表面扩散夹杂所形成的 PN 结乃为同质性结。 异质结电池(HJT...
从而形成“异质”的“PN结”。所以,非晶硅薄膜沉积环节,就相当于汽车发动机的制造环节,不论是从生产成本上看还是从实际功能...
在P型半导体和N型半导体的结合面两侧,留下离子薄层,这个离子薄层形成的空间电荷区称为PN结。PN结的内电场方向由N区指向P区...
PN耗尽层形成的电场分布参见图二(c),最大电场介于PN结界面,三角形面积的大小代表器件承受的电压,最大电场不能超过材料的临界...
(4)PN结:是由一个N型掺杂区和一个P型掺杂区紧密接触所构成...用不同的掺杂工艺使其一边形成N型半导体,另一边形成P型半导体...
相邻的两个不同类型的杂质半导体将形成PN结,我们把发射区与基区之间的PN结称之为发射结,而把基区与集电区之间的PN结称之为...
防止电池片短路 PEVCD——在形成PN结的一面利用增强型等离子化学气相沉积法沉积氮化硅(掺氢)薄膜,并控制合适的厚度以及...
使之形成PN结(PN junction,一种半导体结构),再以此创建晶体...就比如说,向硅材料内掺入五价元素磷或砷,就可以得到N型半导体...
形成PN结(2)H气氛下热处理,Ce掺杂ImageTitle晶体尺寸变大,第二相颗粒没有很好的钉扎晶界,而在空气中热处理出现晶粒细化。
形成“浅埋pn结”并在CIGS表面自然外延生长完全不同,在ACZTSSe表面沉积ACZTSSe的过程中,表面的Zn2+被溶液中NH4OH溶解...
就在棒极附近形成电荷积累区,使未游离区的电场强度增大,而导致...当 PN 结的反向偏压较高时,会发生由于碰撞电离引发的电击穿,...
HJT电池是异质结电池,是一种特殊的PN结,由非晶硅和晶体硅材料形成,是在晶体硅上沉积非晶硅薄膜,属于N型电池中的一种;...
对于NPN管,它是由2块N型半导体中间夹着一块P型半导体所组成...发射区与基区之间形成的PN结称为发射结,而集电区与基区形成的...
P型基区:位于N型漂移区的顶部,这个P型层作为发射极,与N型漂移区形成PN结。 N+发射区:通常位于P型基区的顶部,这个高掺杂...
因此PN结内部会形成一个由N型指向P型的内部电场,这个内部电场会同时排斥P型半导体的空穴和N型半导体的电子,从而阻止PN结的...
日光照射太阳电池表面时,半导体PN结的两侧形成电位差。其效率在百分之十以上,典型的输出功率是5~10毫瓦每平方厘米(结面积...
来改变半导体的电学性能形成pn结、电阻、欧姆接触等。 扩散和...由于掺入的杂质不同,杂质半导体可以分为N型和P型两大类。N型...
对于NPN管,它是由2块N型半导体中间夹着一块P型半导体所组成...发射区与基区之间形成的PN结称为发射结,而集电区与基区形成的...
HJT电池又称为异质结电池,它是一种特殊的PN结,由非晶硅和晶体硅材料形成,是在晶体硅上沉积非晶硅薄膜,属于N型电池中的一...
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