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eda工具前沿信息_eda工具有哪些(2024年11月实时热点)

内容来源：卡姆驱动平台所属栏目：教程更新日期：2024-11-26

eda工具

半导体行业深度解析：产业链与未来趋势 𐟔 想要深入了解半导体行业的现状和前景吗？这里有一份97篇高质量的半导体行业报告等你来探索！从产业链的每个环节到最新的发展趋势，我们为你一一剖析。 𐟔堥Š导体散热片：战略布局，助力封测国产化进程。 𐟒ᠥˆ𖩀 类EDA技术：半导体制造业的关键突破口，TCAD软件作为核心工具至关重要。未来，虚拟晶圆厂将成为推动行业发展的有效策略。 𐟛 ️ EDA工具：上游包括硬件设备、开发工具及其他辅助性软件，中游为EDA工具企业，下游则涵盖芯片设计、制造及封测企业。 𐟌 半导体材料：贯穿半导体生产全流程，细分种类繁多。 𐟒𞠥Š导体硅片：半导体器件的主要载体，集成电路大厦之地基。 𐟓ˆ 敬请期待更多行业报告笔记的更新，我们将为你带来更多深入的分析和展望。

吴恩达老师写的这篇《No Work for CodersCould coding assistants take over software development?》还比较客观，简单来说就是还取代不了，甚至还能增强开发者的能力： 1. AI 自动化会执行一些编码任务，但并不会取代整个编程职业 2. AI 工具在执行任务以及按照模板生成代码方面表现出色，但还不能做 ...

𐟚€IC学习攻略：赢在起跑线！ 𐟤”刚踏入IC行业，是不是感觉一头雾水？别担心，我们为你准备了一份详尽的学习指南！ 𐟓š首先，打好基础是关键。从数电模电、数集模集、半导体物理这些基础知识开始，逐步深入。别忘了，Verilog和SV是IC设计的基本功哦！ 𐟒ᦎ夸‹来，了解设计流程。从需求分析到芯片成品，每个阶段都不可或缺。数字芯片和模拟芯片的设计流程有所不同，要清楚自己的定位。 𐟛 ️掌握常用工具也是必不可少的。好的EDA工具能让设计更高效。综合工具、布局工具等，都是你设计过程中的得力助手。 𐟓ˆ项目经验是提升竞争力的关键。选择含金量高的项目，努力提升完成效果，让你的简历更加亮眼。 𐟓š最后，持续学习是王道。IC行业不断进步，了解市场动态，及时补充新技能，才能保持领先地位。 𐟌Ÿ现在，就让我们一起踏上IC学习的旅程吧！赢在起跑线，未来可期！

果然是华大九天这个eda工具更猛，昨天二选一都没买，哈哈哈哈哈

集成电路基础知识全解析，快速入门！ 𐟔 集成电路工程师是一个对知识和技能要求极高的职业，涉及的知识点广泛且深入。 𐟎˜Ž确职业方向： 𐟔砩›†成电路设计主要分为三大类：模拟电路（Analog）、数字电路（Digital）和射频电路（RF）。 𐟓ˆ 热门岗位包括：数字IC前端设计、数字IC功能验证、DFT设计、数字IC后端实现、模拟IC设计和模拟IC版图设计等。 𐟓š 学习建议： 𐟔 选择数字方向，从基础理论开始，学习Verilog和SystemVerilog语言，以及Vivado等EDA工具，实践简单模块，逐步提高。 𐟓– 模拟电路需要扎实的基础知识，建议深入研读模拟电路的经典书籍。 𐟒ᠦ示：在学习过程中，你会逐渐找到自己感兴趣的方向，并深入探索。 𐟤” 如果你还在迷茫，不确定自己的方向，可以寻求专业指导，获取更多参考。

【「曝2nm半导体工艺突破极限」】工商时报报道称，台积电的2nm工艺技术推进顺利，继续按照原计划于2025年在新竹宝山新厂量产。消息源透露，先进工艺研发成本呈现指数级别增长，且研发周期也不断拉长至7~10年时间，台积电于2016年确认2nm工艺研发路径。此外先进工艺研发费用不断增加，其中涉及IP授权、软件验证、设计架构等多个环节，28nm研发费用为0.5亿美元，16nm工艺需要1亿美元，而推进到5nm已经达到5.5亿美元。建设相关代工厂的投入更是巨大，以3nm工艺为例，相关研发投入需要40~50亿美元，而建设一座3nm工艺工厂至少需要花费150~200亿美元。新的制造架构需要设备、软件（包括IP、EDA工具）和材料的支持，且良率提升难度增加。 2nm工艺对各个环节提出了更高的要求，因此这些成本直接反映在晶圆上，一片晶圆的平均成本预估超过3万美元（约21.1万元人民币），是常规4nm和5nm晶圆成本的两倍。

台积电称 N2P 和 N2X IP 已准备就绪。台积电在欧洲开放创新平台（OIP）论坛上宣布，电子设计自动化（EDA）工具和第三方 IP 模块已为台积电性能增强型的 N2P 和 N2X 制程技术（2 纳米级）做好准备。这意味着各种芯片设计厂商现在可以基于台积电第二代 2nm 级生产节点开发芯片，从而利用 GAA 晶体管架构和低电阻电容器的优势。Cadence 和 Synopsys 的所有主要工具以及 Siemens EDA 和 Ansys 的仿真和电迁移工具，都已为台积电的 N2P 制造工艺做好准备。这些程序已经通过 N2P 工艺开发套件（PDK）版本 0.9 的认证，由于该工艺预计将于 2026 年下半年投入大规模生产，因此该版本 PDK 被认为足够成熟。

Virtuoso仿真网表参数详解在使用Virtuoso进行IC设计仿真时，网表的重要性不言而喻。最近在处理MOS管结电容抽取时，发现不同工具打印出的静态工作点参数存在差异。通过查看网表，发现其中的细微差别。因此，特地整理了一份关于Virtuoso仿真网表的信息，以便未来在仿真时能够多看网表进行对比。 𐟓Š 网表参数详解在Virtuoso中，网表包含了电路的详细信息，如MOS管的名称、端口连接、尺寸参数等。以下是一些关键的网表参数： MOS管名称：表示MOS管的类型，例如NMO。端口连接：描述MOS管的d、gs、b四个端口分别连接的节点。尺寸参数：包括宽度（w）、长度（L）、手指数（nf）、面积（as、ad）、漏极和源极电阻（nrd、nrs）等。仿真器设置：如相对容差（reltol）、绝对电压容差（valbstol）、绝对电流容差（iabstol）、温度（temp）、标称温度（tnom）、模型缩放因子（scalem）、设计缩放因子（scale）、最小导数（gmin）等。 𐟔 网表对比的重要性在使用不同EDA工具进行仿真时，网表的对比至关重要。例如，在使用Spectre仿真器时，发现MOS管后面参数以及仿真器参数设置略有不同，这会影响最终的仿真结果。通过对比网表，发现模型缩放因子（scalem）和设计缩放因子（scale）对仿真结果影响较大。 𐟔砦补ž‹缩放因子（scalem）在Spectre仿真中，scalem影响带有米（m）单位的模型参数。例如，一个1uF的电容，当scalem=1e6时，仿真时电容值就会被视为1F。 𐟔砨𜩦”𞥛 子（scale） scale参数影响具有指定设备长度（1）或宽度（w）的元件。当参数包含单位米（m）时，它们会乘以scale。例如，一个长度为1um的元件，当scale=0.9时，仿真时长度会被缩放为0.9um。 𐟓ˆ 仿真结果差异在实际仿真中，由于不同工具的网表参数设置不同，可能会导致仿真结果存在差异。例如，在Virtuoso的网表中，scale=0.9，而使用其他工具时，对于仿真器设置并没有这一项，这就导致了两次仿真结果的差异。 𐟓 总结通过以上分析，可以看出网表在IC设计仿真中的重要性。在进行仿真时，建议多查看网表，确保参数设置的一致性，以获得更准确的仿真结果。

紫光同芯数字IC设计面试全攻略 𐟓ž 电话面试（8-13）自我介绍成绩、论文、专利、竞赛获奖情况预期薪资 𐟑堤𘀩⯼ˆ8-17）自我介绍意向工作城市其他公司求职进展及OFFER薪资范围、笔试面试流程期望薪资能否提前实习 IC行业方向选择：前端/后端？设计/验证项目背景和优势介绍 EDA工具使用经验项目实现方式：FPGA还是芯片流程项目相关性算法实现方式：硬件还是仿真链路 Verilog实现中的模块逻辑框架反问 𐟑堤𚌩⯼ˆ9-01）自我介绍项目性质：学校项目还是合作项目，验收方式开发环境浮点、定点仿真需求代码优化和资源缩减工作格雷序列与格雷码关系毕设方向 TCP/IP网络协议了解异步电路处理方式异步FIFO原理反问：对岗位有什么了解？ 𐟎“ 个人背景本科211，硕士985，课题组主要研究通信领域，有两个通信相关的FPGA项目，论文1专利2，成绩双Top10%。投递岗位主要是数字IC设计或相关领域。面试中，如果实习经历丰富，会重点考察实习内容；如果没有实习，会重点考察项目经历。

电子行业今日消息解读 1. 根据同花顺问财的观点，电子行业近期表现强劲，光学元件和IC制造板块涨幅显著，光智科技、经纬辉开等个股涨幅明显。这一趋势反映了投资者对电子行业的高度关注，特别是对光刻机产业链的关注。 2. 从融资净买入额行业分布来看，电子行业位居榜首，达到80.43亿元，显示出投资者对电子行业的信心和预期。其他融资净买入额较高的行业包括计算机、国防军工、机械设备等，这表明市场对这些行业的整体表现持乐观态度。 3. 在芯片国产化方面，国内驱动IC企业认为，尽管芯片国产化进程并非强制性，但预计会对台湾企业构成挑战。尽管芯片制造的国产化在EDA工具和光刻机等领域仍面临挑战，但市场空间巨大，SiC国产化趋势正在加速，这为相关产业链提供了新的增长机会。 $上海贝岭 sh600171$「理财必知超话」「公益救援在行动」「节后a股怎么走?」

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