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euv光刻机权威发布_euv光刻机和duv光刻机有什么区别(2024年11月精准访谈)

内容来源：卡姆驱动平台所属栏目：观点更新日期：2024-11-27

euv光刻机

三星拟购50台EUV光刻机最近有消息称，三星计划在未来五年内从荷兰的ASML进口多达50台EUV光刻机，以加强其在芯片制造领域的竞争力。尽管具体细节尚未公布，但每台设备的价值大约为1.53亿美元。 EUV光刻机在先进制程芯片制造中至关重要，占据了总时间和总成本的一半以上。由于这种设备的复杂性，ASML每年只能制造约60台，而全球五大芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机，包括英特尔、美光、三星、SK海力士和台积电。目前，ASML约有70%的EUV光刻机被台积电购买。三星的晶圆代工厂是全球首家制造3nm制程芯片的公司，但在订单承接上不及台积电，后者已经为苹果量产3nm的A17 Pro芯片和M3系列芯片。预计三星将于2024年上半年开始量产其第二代3nm芯片，2025年可生产2nm制程芯片，2027年生产1.4nm制程芯片。为了确保能够从ASML获得稀有的EUV光刻机，三星电子董事长李在镕在2022年前往荷兰，会见了ASML首席执行官Peter Bennink。最近有报道称，韩国总统应荷兰国王Willem Alexander的邀请，将与三星电子董事长李在镕和SK集团董事长崔泰源一同访问荷兰，暂定日期为12月12至13日。三星作为世界第二大合约芯片制造公司，希望与台积电争夺领先地位，目标是到2030年成为全球最大的半导体芯片制造公司。

关于麒麟9020芯片和国产Euv光刻机，路边社消息让人感到有点惊喜。麒麟9020芯片采用n+2 plus工艺，晶体管密度稍弱于台积电5纳米工艺。下一代麒麟9030晶体管密度将超过台积电4纳米工艺，不过需要国产Euv光刻机问世才行。感觉好像又有信心了。我买的Mate60 Pro已经用了1年多了，现在升级了纯血鸿蒙，流畅度飞起。看来完全可以等到麒麟9030芯片再换新机，到时候会不会像余大嘴说的强到飞起，好期待。

[2nm光刻机] ！预计ASML High NA EUV光刻机功耗约1400千瓦！网页链接

日本进口的第一台阿斯麦EUV光刻机将要入厂！现在来看影响最大的应该是美国，毕竟他们又多了一个竞争对手！同时，还让日本芯片制造业带来了新的活力。但是有了最好的设备也要看技术，以后等日本投产了再看吧，因为并不是谁买个设备就能玩转芯片领域。

ASML预测摩尔定律未死，规划至2039年达0.2nm工艺，推出新EUV光刻机。但0.5nm、0.3nm、0.2nm芯片需求存疑，成本高企。同时，芯片技术多元化发展，如光电、碳基芯片，硅基芯片前景待考，ASML愿景或难实现。

我从不否定国家对于半导体自主化的努力，但是股票在投资同时也要认清目前半导体产业碰到状况的现实，才不会在操作迷失在市梦比当中，举光刻机例来说，DUV和EUV两个不同等级的技术，其实是光刻时用的光源波长不同，波长越短的光相当于越锋利的刀，EUV的波长是DUV的1/6还少，虽然我们现在可以利用DUV光刻机配合浸润式与多重曝光技术(利用水改变波长，反覆刻蚀)勉强做出接近7nm的制程，但是良率与生产时间决定了最终成本没有竞争力，更别提日后更高的制程，EUV紫外光是地球自然界不存在的光源，它是靠高速击打锡珠使得其产生不断的裂变产生的光源，根本的问题是要造出我们国产的EUV光刻机，所有的难点就一并解决了，有人比喻如果要造出7nm的芯片是翻过一群高山，那么要造出EUV光刻机的难度相当于翻过过一群珠峰，九月市场传出光刻机的技术出现重大突破，其实指的是DUV在浸润是与多重曝光后可以做出近乎7nm的芯片，但是这已经是DUV的极限了，正视这样的现实，在市场疯炒半导体的当下，知道和对手的差异就不难知道他们会出什么阴招，小散才能在每一笔操作的当下知道利润与风险的评估，做好风险控管有止损意识才能安稳追求利润。

高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻机是世界上最昂贵的芯片制造设备，每台的价格约为3.5亿美元（约合25亿元/台）。按照消息人士的说法，台积电将在本季度在其位于中国台湾新竹总部附近的研发中心安装新的High NA EUV光刻机。「zeus道歉」

台积电新光刻机，AI领先 𐟌 台积电在半导体技术创新上再次迈出重要一步，从ASML接收了首台高数值孔径（NA）EUV光刻机EXE:5000，每台耗资近4亿美元。这项技术是开发次2nm工艺的关键，预计将在2027年以1.4nm节点（A14）实现量产首发。虽然这些设备需要数年的测试和优化，但其提升的分辨率能力有望彻底改变芯片制造行业。 𐟔砥𐧧倫𕧚„这项投资不仅体现了其在技术领先和满足AI芯片需求上的决心，也展示了其在尖端技术规模化上的深厚功力。拥有全球56% EUV设备的台积电，通过采用高NA EUV，可能进一步拉大与三星等竞争者的差距，为行业设立新标杆。 𐟌ˆ 台积电的这一举措不仅巩固了其领先地位，还开启了AI驱动芯片创新的新时代。只有敢于创新的企业，才能在竞争中立于潮头。

【EUV光刻机争夺战，风云突变】随着ASML High-NA EUV光刻机的问世，这一目前世界上最先进的芯片制造设备，显著提升了芯片的晶体管密度和性能，这对于实现2nm以下先进制程的大规模量产至关重要。在此形势下，英特尔、台积电、三星、SK海力士等晶圆制造大厂伺机而动，争相导入或宣布High-NA EUV光刻机市场进展，预示着半导体行业将迎来新一轮的技术革新和竞争高潮。2nm及接下来几代工艺节点将是芯片巨头抢滩的关键…EUV光刻机争夺战，风云突变

这几天炒作EUV光刻机突破的信息铺天盖地。然而国企上海微电子果真能这么快突破技术实现EUV光刻机国产么？我想大概率这个月内科技股会出现暴跌。科技这东西根本不会一下子突飞猛进。尤其是这么一家国企，别想太多了。

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